電子與半導體過濾解決方案 | NESIA Filters
NESIA Filter 提供精密設計的過濾系統，專為電子和半導體產業的嚴格需求量身打造。從超純水生產到無塵室空氣保護，我們的過濾解決方案有助於保障製程完整性、產品品質和良率。
我們支援廣泛的電子和半導體應用，包括
- 超純水過濾
- 化學品和漿料過濾
- 無塵室 HVAC 和 HEPA 系統
- 製程氣體淨化
- CMP（化學機械平面化）漿體過濾
- 靜電敏感環境保護
讓 NESIA Filter 以先進、高效率的過濾系統提升您的半導體作業，將微粒污染和停機時間降至最低，確保穩定、合規且具成本效益的生產。
聯絡我們電子與半導體過濾應用
NESIA Filter 為元件製造的每個關鍵步驟提供高純度、低脫落的過濾解決方案，在超潔淨環境中保護製程穩定性、良率和工具正常運行時間。
超純水 (UPW) 的產生
去除溶解的離子、矽、TOC 及亞微米顆粒，提供 18.2 MΩ - cm 的水，用於晶圓沖洗及化學補妝 - 防止圖案變形及殺手缺陷。
化學品與漿料過濾
為酸、鹽基、光阻及 CMP 漿料提供無金屬、高截留過濾器 - 確保化學品的純度，同時維持漿料的穩定性及去除率的一致性。
無塵室 HVAC 與工具排氣
高效率 HEPA/ULPA 及分子過濾器可控制空氣中的分子污染 (AMC) 及奈米微粒，保護光刻、蝕刻及沉積工具，避免產生限制產量的缺陷。
製程氣體與排氣管路淨化
燒結金屬和複合介質可去除氮氣、氬氣、氫氣和特殊氣體中的濕氣、碳氫化合物和微粒，保護質量流量控制器和臨界室。
推薦過濾解決方案
我們的過濾產品種類繁多，可依各產業的特定需求量身訂做。
為何選擇 NESIA 電子應用濾波器
我們的過濾解決方案經過精密設計，可滿足電子和半導體製造業的超潔淨需求，確保在關鍵生產環境中的純度、穩定性和可靠性。
超低微粒釋放
NESIA 濾波器以高純度材料製造，並採用先進的燒結技術處理，可確保微粒脫落最少，非常適合光刻和蝕刻等敏感製程。
高耐化學性與耐熱性
我們的濾波器可承受侵蝕性的化學物質和較高的溫度，在嚴苛的半導體製造條件下仍能保持結構穩定性和性能。
延長使用壽命
NESIA 過濾器具有優異的機械強度和化學相容性，性能持久，可減少因頻繁更換過濾器而造成的停機時間。
重複使用性與成本效益
NESIA 過濾器專為多次清潔和重複使用循環而設計，與單次使用的替代品相比，NESIA 過濾器提供了更具持續性和成本效益的解決方案。
客製化 OEM/ODM 解決方案
我們提供量身訂做的過濾設計，以符合您的無塵室標準、流體相容性及流速要求 - 支援您確切的生產需求。
全球技術支援
我們的團隊提供快速回應的支援和技術專業知識，協助全球客戶優化超潔淨製造環境的過濾功能。
客戶案例
我們的過濾產品種類繁多，可依各產業的特定需求量身訂做。