電子與半導體過濾解決方案 | NESIA Filters
NESIA Filter 提供精密設計的過濾系統，以滿足電子和半導體產業的嚴格要求。從超純水生產到無塵室空氣淨化，我們的過濾解決方案有助於確保製程完整性、產品品質和生產良率。
我們支援廣泛的電子和半導體應用，包括
- 超純水過濾
- 化學品和漿料過濾
- 無塵室 HVAC 和 HEPA 系統
- 製程氣體淨化
- CMP（化學機械平面化）漿體過濾
- 靜電敏感環境保護
NESIA Filter 擁有先進高效的過濾系統，可協助您提高半導體製造作業的效率，將微粒污染和停機時間降至最低，並確保生產穩定、合規且符合成本效益。
聯絡我們電子與半導體過濾應用
NESIA Filter 為元件製造的每個關鍵步驟提供高純度、低脫落的過濾解決方案，在超潔淨環境中保護製程穩定性、良率和工具正常運行時間。
超純水 (UPW) 的產生
NESIA 過濾器專為整個半導體元件製程提供高純度、低雜訊的過濾系統，涵蓋每個關鍵步驟，確保製程穩定性、高良率，以及設備在極度潔淨的環境中持續運作。
化學品與漿料過濾
NESIA Filter 為酸、鹼、光阻和 CMP 漿料提供無金屬、高截留的過濾解決方案。此設計可確保超高化學純度。它還能保持漿料的穩定性和一致的去除率。
無塵室 HVAC 與工具排氣
高效能 HEPA/ULPA 及分子過濾器可管理空氣中的分子污染 (AMC) 及奈米顆粒。這可確保對光刻、蝕刻和沉積設備提供強大的保護，防止可能降低良率的缺陷。
製程氣體與排氣管路淨化
NESIA Filter 利用燒結金屬和複合介質過濾技術，精確去除氮氣、氬氣、氫氣和各種特殊氣體中的濕氣、碳氫化合物和微小顆粒 - 有效確保質量流量控制器和核心室的純度和長期穩定運行。
推薦過濾解決方案
我們的過濾產品種類繁多，可依各產業的特定需求量身訂做。
為何選擇 NESIA 電子應用濾波器
NESIA Filter 的過濾解決方案是針對電子和半導體製造業的超潔淨需求而精密設計的 - 可確保化學品/氣體/空氣的最終純度、製程穩定性以及關鍵生產環境的長期可靠性。
超低微粒釋放
NESIA 濾波器使用高純度材料和先進的燒結製程製造，可達到極低的微粒釋出量 - 非常適合對潔淨度高度敏感的製程，例如光刻和蝕刻。
高耐化學性與耐熱性
我們的過濾器經久耐用。它們能抵抗包括強酸和強鹼在內的刺激性化學物質，並能承受高溫。這意味著它們能在要求嚴格的半導體生產環境中保持堅固和良好的性能。
延長使用壽命
我們的濾波器專為耐久性而設計，可承受強酸、強鹼等侵蝕性化學物質以及高溫，確保在最嚴苛的半導體生產環境中仍能保持結構穩定與長效效能。
重複使用性與成本效益
NESIA 過濾器的多次循環清洗和重複使用設計，使其比一次性產品更具可持續性和成本效益。
客製化 OEM/ODM 解決方案
我們提供專屬的過濾解決方案，從無塵室標準、流體相容性到流速要求，都能精確符合您的生產需求。
全球技術支援
我們不僅是問題的解決者，更是值得信賴的合作夥伴。我們與全球客戶密切合作，改善他們的過濾系統。憑藉快速的技術支援和專業知識，我們幫助他們實現超潔淨生產。
