Elektronik und Halbleiter Anwendungsdiagramm

Elektronik- und Halbleiter-Filtrationslösungen | NESIA-Filter

NESIA Filter bietet präzise konstruierte Filtersysteme, die auf die strengen Anforderungen der Elektronik- und Halbleiterindustrie zugeschnitten sind. Von der Reinstwasserproduktion bis hin zur Luftreinigung in Reinräumen tragen unsere Filtrationslösungen dazu bei, die Prozessintegrität, die Produktqualität und den Produktionsertrag sicherzustellen.

Wir unterstützen eine breite Palette von Elektronik- und Halbleiteranwendungen, darunter:

  • Reinstwasserfiltration
  • Chemische und Schlammfiltration
  • Reinraum-HVAC- und HEPA-Systeme
  • Reinigung von Prozessgas
  • CMP (Chemisch-mechanische Planarisierung) Schlammfiltration
  • Schutz vor statisch empfindlicher Umgebung

NESIA Filter trägt mit seinen fortschrittlichen und effizienten Filtersystemen dazu bei, die Effizienz Ihrer Halbleiterfertigung zu verbessern, die Verunreinigung durch Partikel und Ausfallzeiten zu minimieren und eine stabile, gesetzeskonforme und kostengünstige Produktion zu gewährleisten.

Kontakt

Elektronik und Halbleiter Filtrationsanwendungen

NESIA Filter bietet hochreine Filtrationslösungen mit geringer Abscheidung für jeden kritischen Schritt bei der Herstellung von Bauelementen, um die Prozessstabilität, den Ertrag und die Betriebszeit von Werkzeugen in extrem sauberen Umgebungen zu gewährleisten.

Ultrareines Wasser UPW Generation

Erzeugung von ultrareinem Wasser (UPW)

NESIA-Filter wurden speziell für die Bereitstellung von hochreinen Filtersystemen mit geringem Abscheidegrad für den gesamten Herstellungsprozess von Halbleiterbauelementen entwickelt und decken jeden kritischen Schritt ab, um Prozessstabilität, hohe Ausbeute und kontinuierlichen Betrieb der Anlagen in extrem sauberen Umgebungen zu gewährleisten.

Chemische und Schlamm-Filtration

Chemische und Schlamm-Filtration

NESIA Filter bietet metallfreie Filtrationslösungen mit hohem Rückhaltevermögen für Säuren, Basen, Photoresists und CMP-Schlämme. Dieses Design gewährleistet eine ultrahohe chemische Reinheit. Außerdem bleiben die Schlämme stabil und die Abscheideraten konstant.

Reinraum HVAC & Werkzeugabsaugung

Reinraum HVAC & Werkzeugabsaugung

Leistungsstarke HEPA/ULPA- und Molekularfilter schützen vor luftgetragenen molekularen Verunreinigungen (AMC) und Nanopartikeln. Dies gewährleistet einen starken Schutz für Lithografie-, Ätz- und Abscheidungsgeräte und verhindert Defekte, die den Ertrag verringern können.

Reinigung von Prozessgas und Entlüftungsleitungen

Reinigung von Prozessgas und Entlüftungsleitungen

NESIA Filter verwendet Sintermetall- und Verbundstoff-Filtertechnologie, um Feuchtigkeit, Kohlenwasserstoffe und feine Partikel präzise aus Stickstoff, Argon, Wasserstoff und verschiedenen Spezialgasen zu entfernen und so die Reinheit und den langfristig stabilen Betrieb von Massendurchflussreglern und Kernkammern zu gewährleisten.

 

Empfohlene Filtrationslösungen

Unser umfassendes Angebot an Filtrationsprodukten kann auf Ihre spezifischen Anforderungen in verschiedenen Branchen zugeschnitten werden.

Warum NESIA-Filter für elektronische Anwendungen wählen?

Die Filtrationslösungen von NESIA Filter sind genau auf die ultra-reinen Anforderungen der Elektronik- und Halbleiterfertigung abgestimmt und gewährleisten höchste Reinheit von Chemikalien/Gasen/Luft, Prozessstabilität und langfristige Zuverlässigkeit in kritischen Produktionsumgebungen.

Bier Karbonisierung Stein Bild

Kontaktieren Sie uns für eine maßgeschneiderte Lösung!

    Bitte beweisen Sie, dass Sie ein Mensch sind, indem Sie die Option Stern.