Elektronik und Halbleiter Anwendungsdiagramm

Elektronik- und Halbleiter-Filtrationslösungen | NESIA-Filter

NESIA Filter liefert präzisionsgefertigte Filtersysteme, die auf die strengen Anforderungen der Elektronik- und Halbleiterindustrie zugeschnitten sind. Von der Reinstwasserproduktion bis zum Schutz der Reinraumluft tragen unsere Filtrationslösungen dazu bei, die Prozessintegrität, die Produktqualität und den Ertrag zu sichern.

Wir unterstützen eine breite Palette von Elektronik- und Halbleiteranwendungen, darunter:

  • Reinstwasserfiltration
  • Chemische und Schlammfiltration
  • Reinraum-HVAC- und HEPA-Systeme
  • Reinigung von Prozessgas
  • CMP (Chemisch-mechanische Planarisierung) Schlammfiltration
  • Schutz vor statisch empfindlicher Umgebung

NESIA Filter verbessert Ihre Halbleiterprozesse mit fortschrittlichen, hocheffizienten Filtersystemen, die entwickelt wurden, um Partikelverunreinigungen und Ausfallzeiten zu minimieren und so eine stabile, konforme und kosteneffektive Produktion zu gewährleisten.

Kontakt

Elektronik und Halbleiter Filtrationsanwendungen

NESIA Filter bietet hochreine Filtrationslösungen mit geringer Abscheidung für jeden kritischen Schritt bei der Herstellung von Bauelementen, um die Prozessstabilität, den Ertrag und die Betriebszeit von Werkzeugen in extrem sauberen Umgebungen zu gewährleisten.

Ultrareines Wasser UPW Generation

Erzeugung von ultrareinem Wasser (UPW)

Entfernt gelöste Ionen, Siliziumdioxid, TOC und Submikronpartikel und liefert 18,2 MΩ - cm Wasser für die Waferspülung und das chemische Make-up - zur Vermeidung von Musterdeformationen und Killerdefekten.

Chemische und Schlamm-Filtration

Chemische und Schlamm-Filtration

Bietet metallfreie Filter mit hohem Rückhaltevermögen für Säuren, Basen, Fotolacke und CMP-Schlämme, die die chemische Reinheit gewährleisten und gleichzeitig die Stabilität des Schlamms und die Konsistenz der Abtragsrate erhalten.

Reinraum HVAC & Werkzeugabsaugung

Reinraum HVAC & Werkzeugabsaugung

Hocheffiziente HEPA/ULPA- und Molekularfilter kontrollieren luftgetragene molekulare Verunreinigungen (AMC) und Nanopartikel und schützen Lithografie-, Ätz- und Abscheidungswerkzeuge vor ertragsbegrenzenden Defekten.

Reinigung von Prozessgas und Entlüftungsleitungen

Reinigung von Prozessgas und Entlüftungsleitungen

Gesinterte Metall- und Verbundmedien entfernen Feuchtigkeit, Kohlenwasserstoffe und Partikel aus Stickstoff, Argon, Wasserstoff und Spezialgasen und schützen so Massenflussregler und kritische Kammern.

Empfohlene Filtrationslösungen

Unser umfassendes Angebot an Filtrationsprodukten kann auf Ihre spezifischen Anforderungen in verschiedenen Branchen zugeschnitten werden.

Warum NESIA-Filter für elektronische Anwendungen wählen?

Unsere Filtrationslösungen sind präzisionsgefertigt, um die ultra-reinen Anforderungen der Elektronik- und Halbleiterherstellung zu erfüllen und Reinheit, Stabilität und Zuverlässigkeit in kritischen Produktionsumgebungen zu gewährleisten.

Kundenfälle

Unser umfassendes Angebot an Filtrationsprodukten kann auf Ihre spezifischen Anforderungen in verschiedenen Branchen zugeschnitten werden.